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更新时间:2025-11-21
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真空镀膜(包括 PVD 物理气相沉积、CVD 化学气相沉积、ALD 原子层沉积等)是真空技术与材料科学的核心结合领域,真空阀门作为真空系统的 “流量与隔离控制核心",直接影响镀膜过程的真空度稳定性、膜层纯度、生产效率及设备寿命。以下从镀膜工艺全流程出发,详细拆解真空阀门的应用场景、选型要求及典型配置,精准匹配行业实际需求:
一、真空镀膜行业对真空阀门的核心技术要求
真空镀膜需在 高真空(10⁻³~10⁻⁵ Pa)/ 超高真空(10⁻⁶~10⁻⁹ Pa) 环境中进行,且对气体纯度、颗粒污染、温度兼容性要求严苛,因此阀门需满足:
1.优秀的密封性能:漏率≤10⁻¹² Pa・m³/s(超高真空场景需≤10⁻¹⁵ Pa・m³/s),避免空气、水汽侵入导致膜层氧化、夹杂;
2.低放气与高洁净度:阀体材质需低蒸气压(如 316L 不锈钢抛光、钛合金),密封件选用氟橡胶(Viton)、全氟橡胶(Kalrez)或金属密封,减少自身气体释放(H₂O、CO₂等),颗粒产生量≤1 颗 /m³(粒径≥0.1μm);
3.流量调节精准性:部分场景需线性流量控制(如反应气体通入、真空梯度调节),流导系数(C)需适配抽气系统(通常 C=100~1000 L/s);
4.耐温与耐腐蚀性:适配镀膜工艺的加热环境(≤400℃,部分 ALD 工艺达 800℃),且能耐受溅射离子、反应气体(如 CF₄、O₂、NH₃)的腐蚀;
5.高可靠性与长寿命:满足产线连续运行需求,开关寿命≥10⁶次(真空隔离阀)、调节寿命≥10⁴次(流量控制阀)。
二、真空镀膜全流程阀门应用场景与选型
1. 真空系统抽气与腔室隔离环节
⑴核心作用:实现镀膜腔室从大气压到目标真空的抽气切换,以及腔室与抽气系统的隔离保护。
⑵典型阀门类型:
l真空插板阀(闸阀):用于镀膜腔室与分子泵 / 扩散泵之间的主隔离,特点是流导大(C≥500 L/s)、密封可靠,推荐型号:Pfeiffer DUO 65 M(超高真空型,金属密封,漏率≤10⁻¹³ Pa・m³/s)、CKD KV 系列(气动驱动,适合快速隔离);
l蝶阀:适配粗抽 / 预抽环节(从大气压降至 10⁻³ Pa),结构紧凑、开关速度快(≤1 秒),推荐选用无油润滑设计(如 Busch DVM 系列),避免油污污染腔室;
l超高真空挡板阀:用于 ALD、高精度 PVD 等超高真空场景,采用磁流体密封或金属波纹管密封,确保无泄漏,典型应用:腔室与离子泵的连接管路。
2. 工艺气体控制环节
⑴核心作用:精准控制反应气体(CVD)、溅射气体(PVD)、载气的通入量与比例,直接影响膜层成分、厚度均匀性。
⑵典型阀门类型:
l质量流量控制器(MFC)配套阀门:MFC 内置的针阀或球阀,需具备高精度流量调节能力(重复性≤±0.5% F.S.),耐腐蚀性强,适配气体:Ar、N₂、O₂、CF₄、SiH₄等,推荐品牌:MKS 1179A 系列、Horiba STEC SEC-Z500 系列;
l气动薄膜阀:用于反应气体主路开关,采用耐腐蚀密封(如哈氏合金阀座),避免气体腐蚀导致密封失效,适合 CVD 工艺的腐蚀性气体回路;
l角座阀:适配溅射气体的快速通断,响应时间≤50ms,确保镀膜过程中气体压力稳定。
3. 镀膜腔室与传输系统连接环节
⑴核心作用:实现晶圆 / 工件在真空传输腔(Load Lock)与镀膜腔之间的隔离与传输通道切换,需零颗粒污染。
⑵典型阀门类型:
l真空隔离阀(滑阀):采用平移式密封结构,无摩擦颗粒产生,推荐型号:SMC XLG 系列(洁净室 Class 1 级,适合半导体镀膜设备)、Nor-Cal AV 系列(金属密封,超高真空兼容);
l快速真空挡板阀:用于 Load Lock 腔室的大气 / 真空切换,抽气时间≤30 秒(从大气压至 10⁻³ Pa),搭配压力传感器实现自动控制,提升生产效率。
4. 尾气处理与辅助系统环节
⑴核心作用:将镀膜过程中产生的有毒有害尾气(如 Cl₂、HF、金属蒸气)安全导出至处理设备,避免泄漏污染。
⑵典型阀门类型:
l耐腐蚀真空阀:阀体采用哈氏合金、蒙乃尔合金,密封件选用全氟橡胶,推荐型号:Swagelok SS-6P4 系列(针阀,适配腐蚀性气体)、Celerity CV 系列(球阀,耐温≤200℃);
l安全阀 / 泄压阀:用于腔室压力过载保护,设定压力精度 ±5%,避免腔室因压力突变损坏,推荐选用弹簧式结构(如 Pfeiffer PR 400)。
三、不同镀膜工艺的阀门配置差异
镀膜工艺 | 核心真空需求 | 关键阀门类型 | 选型重点 |
PVD(溅射 / 蒸发) | 高真空(10⁻³~10⁻⁵ Pa),溅射气体(Ar)通断快速 | 真空插板阀、角座阀、MFC 配套针阀 | 流导大、响应快、无油污染 |
CVD(化学气相沉积) | 中高真空(10⁻²~10⁻⁴ Pa),腐蚀气体(CF₄、SiH₄) | 耐腐蚀气动薄膜阀、质量流量控制阀 | 耐腐蚀性、流量精准度 |
ALD(原子层沉积) | 超高真空(10⁻⁶~10⁻⁹ Pa),气体脉冲式通入 | 超高真空挡板阀、高精度 MFC | 超低漏率、脉冲响应快(≤20ms) |
真空镀膜机(民用 / 工业) | 高真空(10⁻³~10⁻⁴ Pa),兼顾成本与可靠性 | 蝶阀、气动插板阀、普通 MFC | 性价比高、维护便捷 |
四、行业应用趋势与选型建议
1.超高真空化趋势:随着 ALD、高精度 PVD 等工艺普及,超高真空阀门(漏率≤10⁻¹⁵ Pa・m³/s)的应用占比提升,优先选用金属密封(如铜垫、镍垫)替代橡胶密封;
2.智能化集成:阀门需集成位置传感器、压力反馈模块,支持 PLC 联动控制,实现真空度 - 流量 - 阀门状态的闭环调节,适配自动化产线;
3.定制化需求:针对高温镀膜(如>400℃),需选用耐高温阀门(如 Inconel 阀体、金属波纹管密封),避免密封件老化;
4.成本控制:民用镀膜设备可选用性价比高的橡胶密封阀门(如氟橡胶),半导体级镀膜设备需优先保障洁净度与耐腐蚀性,选用金属密封或全氟橡胶密封阀门。
若需针对具体镀膜工艺(如某型号 PVD 设备、ALD 腔体)或介质(如特定腐蚀气体)推荐阀门型号及品牌配置,可补充说明需求,将提供更精准的技术方案!
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